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掺杂类金刚石薄膜的研究

时间:2021-05-23 11:32来源:毕业论文
通过辉光放电等离子体增强化学气相沉积来制备掺氮类金刚石(DLC)薄膜。采用扫描探针显微镜,拉曼光谱,X射线光电子能谱(XPS)来表征其微观结构,通过循环伏安法来表征其电化学性

摘要通过辉光放电等离子体增强化学气相沉积来制备掺氮类金刚石(DLC)薄膜。采用扫描探针显微镜,拉曼光谱,X射线光电子能谱(XPS)来表征其微观结构,通过循环伏安法来表征其电化学性能。研究了不同偏压下氮元素的掺杂对于N-DLC薄膜的微观结构和电化学性能的影响。67240

薄膜表面非常平整光滑。拉曼光谱结果表明随着基体偏压的增加,ID/IG从0.6增加到1.04。在-550V偏压下沉积的N-DLC薄膜中具有最少的N-O键和最多的C-N键。N-DLC薄膜电极的电势窗口大约为4.0V。-550V偏压下沉积的N-DLC薄膜电极具有更加明显的氧化还原电流,以及对于 氧化还原耦的最高可逆性。其在酸性和碱性溶液中的电势窗口分别为4.01V和2.91V。N-DLC薄膜电极在酸性溶液中具有更低的背景电流。这表明其在酸性溶液中更易于检测电催化活性物质。

毕业论文关键词  氮掺杂  类金刚石  不同偏压  微观结构  循环伏安法

毕业设计说明书(论文)外文摘要

Title   The microstructure and electrochemical properties of nitrogen-doped diamond-like carbon films deposited by a hybrid ion beam system

Abstract

Nitrogen-doped diamond-like carbon (DLC) films were synthesized with glow discharge plasma enhanced chemical vapor deposition by a hybrid ion beam system. The influence of nitrogen incorporation under different bias voltage on the microstructure and electrochemical properties of N-DLC films is investigated by scanning probe microscopy, Raman spectroscopy, X-ray photoemission spectroscopy and cycle voltammetry. The surface of the films was very smooth. Raman spectra show that ID/IG increases from 0.6 to 1.04 with the bias voltage increased. The N-DLC film under -550 V has the least N-O bonds and the most C-N bonds. The potential windows of N-DLC electrodes are about 4.0 V. The N-DLC film electrode (-550 V) has more obvious redox currents, and the most reversible behavior for  redox couple. The potential windows of N-DLC electrode (-550 V) are 4.01 V and 2.91 V in acidic and alkaline solutions, respectively. N-DLC films in acidic solution have lower background currents. This hints that N-DLC film electrodes in acidic solutions would be easier for analysis of electrochemical active species.

Keywords  Nitrogen-doped  diamond-like carbon  different bias voltage  microstructure   cyclic voltammetry

目   次

1 绪论 1

2 实验 8

  2.1 N-DLC薄膜的制备8

  2.2 N-DLC薄膜的表征8

  2.3 N-DLC薄膜电化学性能的测量9

3 实验结果与讨论 10

  3.1 N-DLC薄膜的表面形貌10

  3.2 N-DLC薄膜的微观结构11

  3.3N-DLC薄膜的电化学性能分析18

结论 22

致谢  23

参考文献24

1  引言

类金刚石(DLC)薄膜作为一种新型功能薄膜材料,近年来备受关注,具有硬度高( 可以和金刚石媲美) 、高电阻、摩擦系数低以及化学惰性和导热性良好,尤其是在红外频段具有极好的透射性和光学折射率,广泛应用于机械、电子、化学、军事、航空航天、生物医学等领域[1-6]。

1. 1  DLC薄膜的结构

DLC薄膜主要的物理性能,如折射率 电阻率、显微硬度以及红外透明度等项指标与金刚石的物理特性十分相近。但类金刚石薄膜并不是金刚石的晶体结构,而是一种亚稳态长程无序的非晶材料。DLC薄膜与石墨、金刚石的基本成分均为碳元素,但是因碳原子与碳原子之间的结合方式不同,从而导致其最终产生不同的物质。如图1.1,常态下碳原子有三种键和方式:sp1,sp2,sp3。在sp1态,仅两个电子形成σ键,另两个电子形成π键;在sp2态,碳原子的四个电子中的三个形成在同一平面内的三次轴对称的sp2杂化轨道,它们可形成强σ键,第四个电子轨道与该平面垂直,形成π键;在sp3态碳原子的四个电子按四面体形状分布成sp3杂化轨道,形成强σ键[7]。金刚石的碳原子之间以 sp3键的形式结合;石墨的碳原子之间以sp2键的形式结合;而类金刚石薄膜中碳原子之间则是以sp3和 sp2键的形式结合,在含氢的DLC膜中还存在一定数量的C-H键。它是无定形碳的一种亚稳定形态,没有严格的定义,兼具了金刚石和石墨的优良特性。SP2与SP3含量之比,直接影响着膜层的物理特性。 掺杂类金刚石薄膜的研究:http://www.751com.cn/cailiao/lunwen_75364.html

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