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脉冲电沉积法制备NiP纳米非晶薄膜

时间:2018-07-04 14:37来源:毕业论文
用脉冲电沉积的方法制备出了 Ni-P 非晶合金薄膜。通过 XRD 表征手段确定其非晶结构,并研究了温度对于制备的影响

摘要Ni-P非晶态合金是一个几十年来经典的课题,制备 Ni-P 非晶合金的方法与工艺也越来越成熟。而当格莱特教授提出纳米非晶合金(Nanoglass)的概念后,非晶合金的研究受到了新的挑战。利用脉冲电沉积法制备纳米尺度的 Ni-P非晶合金更是未见报道。 本论文中,作者利用脉冲电沉积的方法制备出了 Ni-P 非晶合金薄膜。通过 XRD 表征手段确定其非晶结构,并研究了温度对于制备的影响。 接下来,作者通过SEM 表征镀膜表面形貌发现,脉冲电压波形的变化影响着镀层表面的质量。通过 EDS 表征分析发现,P 在镀膜中的含量大于 20%(原子百分比)即形成了非晶合金结构。 最后,通过高分辨率的 SEM形貌图,确定得出了纳米尺度的非晶合金薄膜,并分析了工艺参数对于镀膜颗粒尺寸的影响。 25142
毕业论文关键词  脉冲电沉积  非晶合金薄膜  纳米非晶合金  尺寸调控
Title  : Preparation of  Ni-P Nanocrystalline Amorphous Alloy Films by Pulsed Electrodeposition          
Abstract For years, “Ni-P crystalline amorphous alloy films” is a very classical study,
and the methods and the technics of the preparation of Ni-P crystalline alloy
films are becoming more and more mature. Nevertheless, this field of research
is faced with a challenge when Pro. Gleiter comes up with a new  conception
named “nanoglass”. And the research of the preparation by pulse
electrodeposition has not been reported yet.
In this paper,  firstly,  the writer successfully prepared the Ni-P
nanocrystalline amorphous alloy films by pulse electrodeposition.  Amorphous
structure  is ensured  through XRD,  And the influence of the temperature is
considererd.
Then, the writer finds that the shape of the pulsed voltage  influence the
quality of the films through observing the surface of the films by SEM. And
finds that when the composition of P is over 20at%, amorphous structure is
ascertained, by EDS.
At last, the paper confirm the nano sized films by the high resolution SEM and 
analyses the influence of the size of the films by parameters.
Keywords   Pulse electrodeposition  Crystalline amorphous alloys  Nanoglass  Size regulation and control
目   次
 
1  绪论  ..  1
1.1  电沉积法制备非晶合金薄膜  .  1
1.1.1  电沉积法制备非晶合金薄膜的概述  ..  1
1.1.2  电沉积法制备非晶合金薄膜的介绍  ..  2
1.1.3  脉冲电沉积法  ..  5
1.1.4  非晶态合金镀层的判定    5
1.2  纳米非晶合金(Nanoglass)    5
1.3  本文立题依据和主要研究内容  ..  7
2  实验过程及表征手段    9
2.1  实验过程  ..  9
2.1.1  衬底的制备  .  9
2.1.2  镀液的配置  .  9
2.1.3  实验装置的连接  ..  10
2.1.4  试验设置  ..  11
2.2  实验工艺参数的选择    11
2.3  实验参数  .  13
2.4 表征手段    14
2.4.1  X 射线衍射仪(XRD)  .  14
2.4.2  扫描电子显微镜(SEM)、电子探针能谱仪(EDS)    14
3  实验结果表征及结果分析  .  16
3.1  XRD 表征及结果分析  .  16
3.2  SEM、EDS表征及结果分析  ..  17
3.2.1  SEM 表征及分析    17
3.2.2  EDS 表征及分析    18 脉冲电沉积法制备NiP纳米非晶薄膜:http://www.751com.cn/cailiao/lunwen_18780.html
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