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介孔氧化铈氧化钴纳米孔材料的可控制备及性能研究(10)

时间:2017-06-27 08:51来源:毕业论文
C5 0.5 10.0 0.230 0.3 0.625 40℃24H 100℃24H 600℃2H 弱小角XRD衍射峰 D5 0.5 10.0 0.150 0.3 0.625 40℃24H 100℃24H 600℃2H 无小角XRD衍射峰 A5,B5,C5,D5,的小角XRD图见图2.21,2.22,2


C5    0.5    10.0    0.230    0.3    0.625    40℃24H
100℃24H    600℃2H    弱小角XRD衍射峰
D5    0.5    10.0    0.150    0.3    0.625    40℃24H
100℃24H    600℃2H    无小角XRD衍射峰
A5,B5,C5,D5,的小角XRD图见图2.21,2.22,2.23,2.24
图2.21 A5在管式炉氮气中中焙烧后除去碳后CeO2/SiO2/C的小角XRD图
图2.22 B5在管式炉氮气中中焙烧后除去碳后CeO2/SiO2/C的小角XRD图
图2.23 C5在管式炉氮气中中焙烧后除去碳后Co3O4/SiO2/C的小角XRD图 介孔氧化铈氧化钴纳米孔材料的可控制备及性能研究(10):http://www.751com.cn/huaxue/lunwen_9928.html
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