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高活性纳米三氧化钨的制备表征及光催化分解水制氢研究(3)

时间:2017-04-23 17:10来源:毕业论文
H2WO4 == WO3 + H2O (1-2) 魏少红等[7]将一定量的钨酸铵(化学纯)放入马弗炉内于500℃下高温煅烧3 h,自然冷却后研磨得到平均粒径在50nm-60 nm范围内的纯WO3纳米


H2WO4 == WO3 + H2O ↑                                      (1-2)
魏少红等[7]将一定量的钨酸铵(化学纯)放入马弗炉内于500℃下高温煅烧3 h,自然冷却后研磨得到平均粒径在50nm-60 nm范围内的纯WO3纳米粉体。
固相分解法虽然工艺简单,但分解过程中易产生某些有毒气体,造成环境污染,同时生成的粉末易团聚,需再次粉碎。
1.1.2  沉淀法
    包含一种或多种离子的可溶性盐溶液,当加入沉淀剂后,或于一定温度下使溶液发生水解,形成不溶性的氢氧化物、水合氧化物或盐类从溶液中析出,并将溶剂和溶液中原有的阴离子洗去,经热分解或脱水即得到所需要的氧化物粉料。有共沉淀法和化学沉淀法。
Sitthisuntorn Supothina等[8]以(NH4)l0W12O41•5H2O溶液和硝酸为原料,通过化学沉淀反应、洗涤、干燥、煅烧得到平均尺寸为30nm的WO3纳米颗粒。并发现,延长前驱体溶液的搅拌时间对沉淀物的产率没有影响,但是导致了纳米板的形成。而且沉淀产物的产量随着溶液饱和度的增加(增大两个反应物浓度)而增大。J.Tmakai等[9]以ATP为原料,加入适当酸制得H2WO4,再经锻烧得WO3陶瓷粉体。在不同温度下(300℃-600℃)热处理,得到粉体粒径范围为16nm-57nm,比ATP直接热解产物要均匀。
牛新书等[10]用共沉淀法,按一定的比例取1mol/L的Na2WO4溶液和Na2SnO4溶液,混合均匀后缓慢滴至沸腾的稀硫酸中,不断搅拌生成沉淀,再经陈化、洗涤、过滤、烘干、煅烧得到SnO2-WO3气敏粉体材料。Dae-Sik Lee等[11]人用溶胶一共沉淀法,往WCl6和TiCl4(4wt%)水溶液中加入氨水和适当的表面活性剂,形成W(OH)6和Ti(OH)4,离心分离,锻烧得3nm-9nm的WO3陶瓷粉体。颗粒度越小,粒度越均匀颗粒团聚越小,相应的气体灵敏度越高,响应及恢复时间越短。
1.1.3  水热合成法
水热合成法是指是指在特制的密闭反应器(高压釜)中,采用水溶液作为反应体系,通过对反应体系加热、加压(或自生蒸气压),创造一个相对高温、高压的反应环境,使得通常难溶或不溶的物质溶解并且重结晶而进行无机合成与材料处理的一种有效方法。在高温、高压下一些氢氧化物在水中的溶解度大于对应的氧化物在水中的溶解度,于是氢氧化物溶于水中同时析出氧化物。由于水热与溶剂热化学的可操作性和可调变性,使其成为衔接合成化学与合成材料物理性质之间的桥梁。应用水热与溶剂热合成方法制备的材料和晶体的物理与化学性质具有其本身的特异性和优良性,显示出广阔的发展前景。
Gerand等[12]首次以Na2WO4和HCl水热法制备的WO3•0.33H2O为前驱体,合成了751方晶型的WO3。徐英明等[13]在水热条件下,以钨酸钠为原料,通过调节反应的pH值、酸的质量浓度、反应温度及反应时间,找到了较佳的焦绿石型氧化钨超微粉体的制备工艺:Na2WO4浓度为1mol/L, HCl浓度为3.6mol/L,体系的pH控制在2.5,反应温度200℃,反应时间3天。体系产物为立方晶系的焦绿石型WO3超微粉体,粒径大小约为24 nm。该法的优点在于可直接生成氧化物,避免了一般液相合成法需要煅烧转化成氧化物的步骤,从而大大地减少乃至避免了硬团聚的发生。
Huang K等[14]以钨粉、过氧化氢、草酸为原料通过加入Na2SO4,在180℃下反应12h,水热合成了751方晶型WO3纳米棒,所得纳米棒的直径在100nm-200nm,长度可达数微米。控制不同的水热合成参数,所得产物的形貌和结构也不同。他们还讨论了当加入Na2SO4的量不同时,产物的形貌变化和生长机理。 高活性纳米三氧化钨的制备表征及光催化分解水制氢研究(3):http://www.751com.cn/cailiao/lunwen_5577.html
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